スパッタ法によるニオブ酸カリウム薄膜の配向性制御 Orientation Control of Potassium Niobate Thin Film Prepared by Sputtering

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抄録

Potassium niobate thin films were prepared on amorphous (SrO-SiO<SUB>2</SUB>) layer/Si wafer by means of RF magnetron sputtering using a (KNbO<SUB>3</SUB>+ K<SUB>2</SUB>CO<SUB>3</SUB>) mixed powder target. Amorphous (SrO-SiO<SUB>2</SUB>) layers under the potassium niobate thin films were prepared by means of RF magnetron sputtering using a (SrCO<SUB>3</SUB> + SiO<SUB>2</SUB>) mixed powder target. Crystallization and orientation of the potassium niobate thin films depended on (KNbO<SUB>3</SUB> + K<SUB>2</SUB>CO<SUB>3</SUB>) target compositions and amorphous (SrO-SiO<SUB>2</SUB>) layer target compositions under the potassium niobate thin films. The orientation of potassium niobate thin films could be controlled by a favorable choice of (KNbO<SUB>3</SUB> + K<SUB>2</SUB>CO<SUB>3</SUB>) target compositions and amorphous (SrO-SiO<SUB>2</SUB>) layer target compositions, and produced highly [110] oriented perovskite type potassium niobate thin films.

収録刊行物

  • 真空  

    真空 42(5), 581-584, 1999-05-20 

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  5件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004568012
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4761237
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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