エキシマ・レーザ・アニールにより形成された低温プロセス多結晶Siのキャラクタリゼーション Characterization of Low-Temperature Processed Poly-Si Film Prepared by Excimer Laser Annealing

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  • 真空

    真空 42(8), 741-748, 1999-08-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  18件中 1-18件 を表示

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    DOI 被引用文献6件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004568288
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4850448
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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