第5回スパッタリングおよびプラズマプロセス国際シンポジウム(The Fifth International Symposium on Sputtering & Plasma Processes:ISSP'99)報告

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著者

収録刊行物

  • 真空  

    真空 42(10), 933-935, 1999-10-20 

    日本真空協会

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004568614
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4892130
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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