ドライエッチング装置における地球温暖化ガス削減の取り組み Efforts to Reduce Greenhouse Gas from Dry Etch Tools

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 真空

    真空 42(11), 964-967, 1999-11-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  7件中 1-7件 を表示

  • <no title>

    United Nations

    Intergovernmental Panel on Climate Change 1995

    被引用文献1件

  • <no title>

    日本電子機械工業会

    半導体製造ラインで使用されるPFCの排出削減目標に関するポジション ペーパー

    被引用文献1件

  • <no title>

    Atmospheric and Environmental Research Incorporated.

    Calculations of Global Warming Potentials and Atmospheric Lifetimes of C_5F_8

    被引用文献1件

  • <no title>

    MEYERS Jerry

    Emissions Characterization Package Rev.2.4

    被引用文献1件

  • OXIDE ETCHING REACTER FOR 300mm WAFER AND/OR 0.18 um PROCESS

    友安昌幸

    SEMICON China 98 Technical Symposium Session 1

    被引用文献1件

  • <no title>

    日本ゼオン株式会社

    製品安全データシート 1999年版

    被引用文献1件

  • <no title>

    グローバルネット株式会社

    半導体工場が直面する環境対策とコスト問題 1998

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004568625
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4921567
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
ページトップへ