半導体製造装置からの全フッ素化合物(PFC)排出削減の取組 Measures against PFC Emissions Reduction from Semiconductor Manufacturing Equipments

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収録刊行物

  • 真空

    真空 42(11), 968-974, 1999-11-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  10件中 1-10件 を表示

  • <no title>

    BEU L.

    SEMATECH Technology Transfer #98053508A, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    笹部

    SEMIテクノロジー シンポジウム96予稿, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    MENDICINO L.

    SEMATECH Technology Transfer #98083547B, 1998

    被引用文献1件

  • 地球環境産業技術にかかわる先導研究

    技術研究組合超先端電子技術開発機構

    半導体製造等に使用するPFC等の地球温暖化ガスの代替ガスシステムの研究成果報告書, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    鎮西

    真空 41, 685, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    ITO Y.

    Proc.20th Dry Process Symp. 263, 1998

    被引用文献1件

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    GOTO Y.

    Proc. 19th Dry Process Symp. 261, 1997

    被引用文献2件

  • <no title>

    HASSERJIAN K.

    Proc.Global Semiconductor Industry Conference on Perfluorocompound Emissions Control, 1998

    被引用文献1件

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    MEYERS J.

    Equipment Environmental Characterization Guidlines Rev. 3, 1999

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    KARECKI S.

    J.Vac.Sci.Technol. A16, 755, 1998

    DOI 被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004568633
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4921575
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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