磁気中性線放電プラズマ(II)-酸化膜エッチングへの応用- Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma (II)-Application to Oxide Film Etching Process-

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 真空

    真空 42(12), 1076-1083, 1999-12-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  13件中 1-13件 を表示

  • <no title>

    MIZUTANI N.

    J.pn.J.Appl.Phys. 38, 4206, 1999

    被引用文献2件

  • <no title>

    ASAKURA H.

    Jpn. J. Appl. Phys. 36, 4493, 1997

    被引用文献3件

  • <no title>

    YOSHIDA Z.

    Phys.Rev.Lett. 81, 2458, 1998

    被引用文献6件

  • <no title>

    TSUBOI H.

    Jpn. J. Appl. Phys. 36, 6540, 1997

    被引用文献5件

  • <no title>

    陳巍

    Proceedings of The 15th Symposium on Plasma Processing 526, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    森川泰宏

    第45回応用物学会関係連合講演会講演予稿集 674, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    TATSUMI T.

    Proceedings of Symposium on Dry Process 385, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    OKIGAWA M.

    Proceedings of The15th Symposium on Plasma Processing 454, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    杉田吉平

    第45回応用物学会関係連合講演会講演予稿集 674, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    CHEN W.

    Vacuum 53, 29, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    CHEN W.

    J.Vac.Sci.Technol. A16(3), 1594, 1998

    DOI 被引用文献1件

  • 磁場ヌル点におけるプラズマ物理

    吉田 善章

    プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research 73(8), 757-763, 1997-08-25

    参考文献8件 被引用文献6件

  • プロセス用の新しい高密度プラズマの生成と診断IV 4. 磁気中性線放電(NLD)プラズマ

    陳 巍 , 林 俊雄 , 伊藤 正博 , 坪井 秀夫 , 内田 岱二郎

    プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research 74(3), 258-265, 1998-03-25

    参考文献12件 被引用文献2件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004568850
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    4951897
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
ページトップへ