基礎編:半導体材料・プロセスの物理と設計(3)原子拡散のミクロな機構

• 押山 淳

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• キソヘン ハンドウタイ ザイリョウ プロセス ノ ブツリ ト セッケイ 3 ゲンシ カクサン ノ ミクロ ナ キコウ

Journal

• 応用物理

  応用物理 68 (10), 1167-1170, 1999-10

  東京 : 応用物理学会

Details

• CRID: 1520572360204261504
• NII Article ID: 10004650975
• NII Book ID: AN00026679
• ISSN: 03698009
• NDL BIB ID: 4864415
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4864415
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles