高密度プラズマとエッチング・薄膜形成への応用 High-density plasma and its application to etching and thin-film formation

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著者

    • 堀 勝 HORI Masaru
    • 名古屋大学工学研究科 Department of Quantum Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University
    • 後藤 俊夫 GOTO Toshio
    • 名古屋大学工学研究科 Department of Quantum Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya University

収録刊行物

  • 應用物理  

    應用物理 68(11), 1252-1257, 1999-11-10 

    応用物理学会

参考文献:  29件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004651146
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    4897343
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
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