極微細低抵抗ゲート電極配線技術 Ultrafine low-resistance gate electrode wiring technology

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著者

    • 須黒 恭一 SUGURO Kyoichi
    • (株)東芝セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所 プロセス技術研究所 ULSI Process Development Group II, ULSI Process Engineering Laboratory, Microelectronics Engineering Laboratory, Semiconductor Company, TOSHIBA Corporation

収録刊行物

  • 應用物理  

    應用物理 68(11), 1258-1262, 1999-11-10 

    応用物理学会

参考文献:  30件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004651176
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    4897352
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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