メタル/Low K-CMP後洗浄技術 Post metal/Low K-CMP cleaning technology

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  • 應用物理

    應用物理 68(11), 1267-1270, 1999-11-10

    応用物理学会

参考文献:  11件中 1-11件 を表示

  • <no title>

    EDELSTEIN D.

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    VENKATESAN S.

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    AOKI H.

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  • レドックス式洗浄法

    澄田修生

    洗浄設計 春号, 62, 1987

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    青木秀充

    第58回応用物理学会学術講演会予稿集 775, 1997

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    AOKI H.

    Extended Abstracts.of SSDM 282, 1998

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    石川典夫

    第5回プラナリゼーション加工/CMP応用技術専門委員会研究会資料, 1998

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    YAMANAKA K.

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    LOKE Alive L. S.

    IEEE Electron Device Lett. 17, 549-551, 1996

    DOI 被引用文献2件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004651227
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    4897367
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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