メタル/Low K-CMP後洗浄技術

• 青木 秀充

• 山崎 進也

Bibliographic Information

Other Title

• メタル Low K-CMP ゴ センジョウ ギジュツ

Journal

• 応用物理

  応用物理 68 (11), 1267-1270, 1999-11

  東京 : 応用物理学会

Details

• CRID: 1520009410258791168
• NII Article ID: 10004651227
• NII Book ID: AN00026679
• ISSN: 03698009
• NDL BIB ID: 4897367
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4897367
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles