貴金属/Si界面における常温合金化反応 Alloying reactions at noble-metal/Si interfaces at room temperature

この論文をさがす

著者

    • 坂田 孝夫 SAKATA T.
    • 大阪大学超高圧電子顕微鏡センター Research Center for Ultra High Voltage Electron Microscopy, Osaka University
    • 浮田 康成 UKITA Y.
    • 大阪大学超高圧電子顕微鏡センター Research Center for Ultra High Voltage Electron Microscopy, Osaka University
    • 請園 良信 UKEZONO Y.
    • 大阪大学超高圧電子顕微鏡センター Research Center for Ultra High Voltage Electron Microscopy, Osaka University
    • 森 博太郎 MORI H.
    • 大阪大学超高圧電子顕微鏡センター Research Center for Ultra High Voltage Electron Microscopy, Osaka University

収録刊行物

  • 高温学会誌  

    高温学会誌 26(4), 5, 2000-07-20 

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004659436
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00080051
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    03871096
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ