X線光電子分光法(XPS)を用いた塗膜表面におけるケイ酸エステルの加水分解率の定量的評価 Determination of Hydrolysis Ratio of Silicic Ester on the Surface of Coated Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy(XPS)

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 日本化学会誌 : 化学と工業化学 = Journal of the Chemical Society of Japan : chemistry and industrial chemistry

    日本化学会誌 : 化学と工業化学 = Journal of the Chemical Society of Japan : chemistry and industrial chemistry 2000(4), 267-271, 2000-04-10

    日本化学会

参考文献:  8件中 1-8件 を表示

  • <no title>

    壱岐島健司

    色材協会誌 64, 780, 1988

    被引用文献1件

  • <no title>

    NAKAYAMA Y.

    Polym.Eng.Sci. 31, 812, 1991

    被引用文献2件

  • <no title>

    WAGNER C. D.

    J.Vac.Sci.Tech. 21, 933, 1982

    被引用文献1件

  • <no title>

    NAKAMURA M.

    J, Surf.Anal. 5, 352, 1999

    被引用文献3件

  • <no title>

    WAGNER C. D.

    Surf.Interface Anal. 3, 221, 1981

    被引用文献2件

  • <no title>

    BEAMSON G.

    High Resolution XPS of Organic Polymers. The Scienta ESCA300 Database 118, 1992

    被引用文献4件

  • <no title>

    ALFONSETTI R.

    Thin Solid Films 213, 158, 1992

    DOI 被引用文献2件

  • Microscopic structure of the SiO2/Si interface

    HIMPSEL F. J.

    Proc. Physical Review B 38, 6084-6096, 1988

    DOI 被引用文献94件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004688044
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00186595
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03694577
  • NDL 記事登録ID
    5341424
  • NDL 雑誌分類
    ZP1(科学技術--化学・化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-659
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
ページトップへ