分散度制御したZrO_2担持Rh触媒によるCH_4酸化反応およびCH_4のCO_2リホーミング反応 Oxidation of CH_4 and CO_2 Reforming of CH_4 over Rh/ZrO_2 Catalysts with Different Metal Dispersions

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抄録

分散度制御したRh/ZrO<SUB>2</SUB>触媒を用いて,低濃度CH<SUB>4</SUB>の酸化反応(800ppm)およびCH<SUB>4</SUB>のCO<SUB>2</SUB>リホーミング反応を行った。その結果,両方の反応においてRh分散度が高く(Rh粒子径が小さく)なるとターンオーバー頻度(TOF)が低くなる構造敏感型であることがわかった。どちらの反応もCH<SUB>4</SUB>の解離吸着が律速であることから,Rh粒子径が小さくなるとRhと表面酸素の結合(Rh-O)がより強くなることで,CH<SUB>4</SUB>の解離吸着が阻害されTOFが低くなると結論した。

Oxidation of CH<SUB>4</SUB> under lean condition(800ppm) and CO<SUB>2</SUB> reforming of CH<SUB>4</SUB> were carried out using Rh/ZrO<SUB>2</SUB> catalysts with different metal dispersions. It was found that both reactions showed a similar structure-sensitive behavior: The TOF decreased with increasing of Rh dispersion. It is suggested that the rate determining step is dissociative adsorption of CH<SUB>4</SUB> for both reactions, and strong Rh-O bonds in smaller Rh crystallites may lead to a suppression of the dissociative adsorption of CH<SUB>4</SUB> on the Rh surface.

収録刊行物

  • 日本化学会誌 : 化学と工業化学 = Journal of the Chemical Society of Japan : chemistry and industrial chemistry

    日本化学会誌 : 化学と工業化学 = Journal of the Chemical Society of Japan : chemistry and industrial chemistry 2000(8), 561-566, 2000-08-10

    公益社団法人 日本化学会

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004688813
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00186595
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03694577
  • NDL 記事登録ID
    5436806
  • NDL 雑誌分類
    ZP1(科学技術--化学・化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-659
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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