SPP(Silicone-based Positive Photoresist)マスクによるポリイミドの三次元立体加工 Deep etching of fluorinated polyimide using an SPP(Silicone-based Positive Photoresist) mask

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収録刊行物

  • 電気学会論文誌. E, センサ・マイクロマシン準部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A publication of Sensors and Micromachines Society  

    電気学会論文誌. E, センサ・マイクロマシン準部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A publication of Sensors and Micromachines Society 117(1), 57-58, 1997-01 

    The Institute of Electrical Engineers of Japan

参考文献:  3件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004831901
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1052634X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    13418939
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  J-STAGE 
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