X-ray Mask with SiC Membrane for LIGA Process

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抄録

In order to develop a practical LIGA process, a high contrast X-ray mask with a SiC membrane was produced. The X-ray mask was composed of a 3μm thick Au as an absorber, a 2μm thick SiC as a membrane of dimensions 10mm × 30mm and a 2mm thick Si of dimensions 3 inch as a frame. A feature of the X-ray mask is the application of a SiC membrane, which has high permeability to X-rays, high thermal conductivity and moderate tensile stress. As a result, Ni microstructures with a maximum aspect ratio of 100, corresponding to 2μm width and 200μm height, were fabricated by the LIGA process.

収録刊行物

  • 電気学会論文誌. E, センサ・マイクロマシン準部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A publication of Sensors and Micromachines Society  

    電気学会論文誌. E, センサ・マイクロマシン準部門誌 = The transactions of the Institute of Electrical Engineers of Japan. A publication of Sensors and Micromachines Society 119(4), 229-235, 1999-04 

    The Institute of Electrical Engineers of Japan

参考文献:  10件

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被引用文献:  1件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10004833843
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1052634X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    13418939
  • NDL 記事登録ID
    4705178
  • NDL 雑誌分類
    ZN31(科学技術--電気工学・電気機械工業)
  • NDL 請求記号
    Z16-B380
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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