シリカ‐ジルコニア水素分離膜の開発とジルコニア分率の分離性に及ぼす影響

• 吉田 和広

  中国電力（株）技術研究センター

• 平野 義男

  中国電力（株）技術研究センター

• 藤井 宏記

  中電環境テクノス（株）

• 都留 稔了

  広島大学工学部化学工学科

• 浅枝 正司

  広島大学工学部化学工学科

書誌事項

タイトル別名

• Development of Silica-Zirconia Membrane for Hydrogen Separation at High Temperature and Effect of Zirconia Content on Hydrogen Permeation.
• シリカージルコニア水素分離膜の開発とジルコニア分率の分離性に及ぼす影響
• シリカ ジルコニア スイソ ブンリ マク ノ カイハツ ト ジルコニア ブンリツ ノ ブンリセイ ニ オヨボス エイキョウ

抄録

ゾルゲル法によるシリカ膜は高温下で高い水素選択透過性を示す．しかし，LNG改質ガス等の大量の水蒸気を含有する条件下での耐性向上が課題となっている．本研究は，シリカージルコニア膜の水素分離性能に，ジルコニア添加率が与える影響を明らかにすることを日的とした．<br>その結果，ジルコニアを10mol%添加した膜では，H2/N2分離係数100以上，水素透過係数1×10^-5m³（STP）m上2s-lkPa-程度の膜が可能であった．しかし，ジルコニア添加率をより高めると水素分離性能が著しく低下した．これは水素，ヘリウムの透過の活性化エネルギーが増加することから，ジルコニア添加率を高めると水素分離薄膜層が緻密化するためと考えられる．

収録刊行物

• 化学工学論文集

  化学工学論文集 27 (1), 106-112, 2001

  公益社団法人 化学工学会

キーワード

• inorganic membranes
• sol-gel method
• hydrogen separation
• gas separation
• silica-zirconia

詳細情報

• CRID: 1390282679484633216
• NII論文ID: 10006553893
• NII書誌ID: AN00037234
• DOI: 10.1252/kakoronbunshu.27.106
• COI: 1:CAS:528:DC%2BD3MXnvVOjsA%3D%3D
• ISSN: 13499203
• ISSN: 0386216X
• NDL書誌ID: 5649075
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5649075
• Web Site: http://www.jstage.jst.go.jp/article/kakoronbunshu/27/1/27_1_106/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可