有機ケイ素を用いたイオン誘起CVD法の開発

• 松谷 貴臣

  産業技術総合研究所

• 浅沼 達哉

  産業技術総合研究所

• 劉 昌

  産業技術総合研究所

• 木内 正人

  産業技術総合研究所

• 竹内 孝江

  奈良女子大学

• 後藤 誠一

  大阪大学工学部超高温理工学研究施設

書誌事項

タイトル別名

• Ion Beam Induced CVD Method with Organosilicon Precursor

収録刊行物

• 高温学会誌

  高温学会誌 28 (1), 12-, 2002-01-20

詳細情報

• CRID: 1572543024452913536
• NII論文ID: 10007762962
• NII書誌ID: AN00080051
• ISSN: 03871096
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles