触媒化学気相成長法による1mサイズ基板上への均一堆積技術開発 Development of Large-Area Uniform Deposition Technique on 1-m-Size Substrate by Catalytic Chemical Vapor Deposition

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著者

    • 柄澤 稔 KARASAWA Minoru
    • 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科 School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology (JAIST)
    • 坂井 全弘 SAKAI Masahiro
    • 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科 School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology (JAIST)
    • 増田 淳 MASUDA Atsushi
    • 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科 School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology (JAIST)
    • 松村 英樹 MATSUMURA Hideki
    • 北陸先端科学技術大学院大学材料科学研究科 School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology (JAIST)

抄録

Large-area deposition with 1-m size is demonstrated by catalytic chemical vapor deposition (Cat-CVD) apparatus equipped with newly developed showerhead catalyzers. The arrangement of catalyzer wires is determined by simulation based on the experimental results that decomposed species on catalyzers are transported by isotropic thermal diffusion without an influence of the gas flow. Uniformity of± 7.5% and deposition rate of 5.3 Å/s for amorphous silicon films are obtained using silane flow rate of only 100 sccm on the glass substrate with a size of 960 mm ×400 mm. These results suggest that the Cat-CVD is one of the most promising methods for fabrication of large-area devices such as thin-film transistors and solar cells.

収録刊行物

  • 真空

    真空 45(3), 123-126, 2002-03-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  15件中 1-15件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008202767
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    6144084
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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