ガラス基板上への無電解NiPめっきの初期析出挙動 Initial Deposition Behavior of Electroless Nickel on Glass Substrate

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抄録

Initial deposition rate and appearance of deposited nickel on glass are measured to realize the role of a complexing agent in the electroless plating bath.<br>We evaluated carboxylic acids, hydro carboxylic acids and amino acids as complexing agent.<br>Among these complexing agents, carboxylic acids and hydro carboxylic acids indicated an acceleration effect and amino acids showed a retardation effect on the plating rate.<br>Deposited nickel particles are agglomerated ranging from 10 to 30nm in the early deposition stages.<br>Glycine among the complexing agents showed the smallest particle sizes in the initial deposition stages and nickel was uniformly deposited and distributed on glass.<br>Therefore, this may lead the improvement of the adhesion strength of deposited nickel on glass.

収録刊行物

  • 表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan

    表面技術 = The Journal of the Surface Finishing Society of Japan 53(4), 256-261, 2002-04-01

    The Surface Finishing Society of Japan

参考文献:  17件中 1-17件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008222337
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1005202X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    09151869
  • NDL 記事登録ID
    6144033
  • NDL 雑誌分類
    ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-291
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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