TUNNELING REACTION OF H ATOMS WITH SILANE THIN FILM AT CRYOGENIC TEMPERATURE : FROMATION OF THIN-FILM SEMICONDUCTOR

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著者

    • SATO T.
    • Clean Energy Research Center, Ymamanashi University
    • SATO S.
    • Clean Energy Research Center, Ymamanashi University
    • HISHIKI S.
    • Clean Energy Research Center, Ymamanashi University
    • SUZUKI K.
    • Clean Energy Research Center, Ymamanashi University
    • YOKOYAMA T.
    • Clean Energy Research Center, Ymamanashi University
    • KITAGAWA S.
    • Clean Energy Research Center, Ymamanashi University
    • HIRAOKA K.
    • Clean Energy Research Center, Ymamanashi University

収録刊行物

  • Atomic collision research in Japan

    Atomic collision research in Japan 27, 88, 2001-12-15

参考文献:  7件中 1-7件 を表示

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    HIRAOKA K.

    J. Phys. Chem. B 105, 6950, 2001

    被引用文献1件

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    HIRAOKA K.

    Astrophys. J. 532, 1029, 2000

    被引用文献3件

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    HIRAOKA K.

    Radiat. Phys. Chem. 60, 1, 2001

    被引用文献2件

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    HIRAOKA K.

    Science 292, 869, 2001

    被引用文献1件

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    EFIMOV V.

    Phys. Lett. 33B, 563, 1970

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    EFIMOV V.

    Nucl. Phys. A210, 157, 1973

    被引用文献1件

  • <no title>

    TAKAYANAGI T.

    J. Chem. Phys. 92, 2862, 1990

    DOI 被引用文献4件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008431536
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11068271
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    ART
  • データ提供元
    CJP書誌 
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