酢酸存在下におけるアゾキシベンゼン類の光反応 Photochemical Reaction of Azoxybenzenes in the Presence of Acetic Acid

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著者

    • 濱田 龍二 HAMADA Ryuji
    • 鳥取大学工学部物質工学科 Department of Materials Science, Faculty of Engineering, Tottori University
    • 坪井 隆 TSUBOI Takasi
    • 鳥取大学工学部物質工学科 Department of Materials Science, Faculty of Engineering, Tottori University

収録刊行物

  • 日本化学会誌 : 化学と工業化学 = Journal of the Chemical Society of Japan : chemistry and industrial chemistry

    日本化学会誌 : 化学と工業化学 = Journal of the Chemical Society of Japan : chemistry and industrial chemistry 2002(3), 339-343, 2002-03-10

    日本化学会

参考文献:  19件中 1-19件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008439425
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00186595
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03694577
  • NDL 記事登録ID
    6155476
  • NDL 雑誌分類
    ZP1(科学技術--化学・化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-659
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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