誘電体及び半導体のDUV/VUVレーザー加工とフェムト秒レーザー加工の比較 Comparison between DUV/VUV and Femtosecond Laser Processing of Dielectrics and Semiconductors

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抄録

Both of DUV/VUV and femtosecond lasers are expected as novel tools for materials processing for the next generation. DUV/VUV laser is good at surface micropatterning and surface shaping, while femtosecond laser is suitable for internal modification of transparent materials as well as micro-hole drilling, cutting and high aspect ratio machining. In this paper, precison microfabrication of dielectrics and semiconductors using DUV/VUV and femtosecond lasers are reviewed, and features of each laser processing are compared.

収録刊行物

  • レーザー研究

    レーザー研究 30(5), 226-232, 2002-05-15

    The Laser Society of Japan

参考文献:  32件中 1-32件 を表示

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    DOI 被引用文献16件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008508763
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00255326
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03870200
  • NDL 記事登録ID
    6168098
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1040
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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