SCM-XAFS法による半導体表面顕微分光 Microspectroscopy of Semiconductor Surfaces by SCM-XAFS Method

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  • 表面科学

    表面科学 23(6), 374-380, 2002-06-10

    日本表面科学会

参考文献:  14件中 1-14件 を表示

  • <no title>

    LYTLE F. W.

    Phys. Rev. B11, 4825, 1975

    被引用文献4件

  • <no title>

    TEO B. K.

    J. Am. Chem. Soc. 101, 2815, 1979

    被引用文献13件

  • <no title>

    ISHII M.

    Appl. Phys. Lett. 74, 2676, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    ISHII M.

    J.Appl.Phys 88, 3962, 2000

    被引用文献5件

  • <no title>

    ISHII M.

    Jpn. J. Appl. Phys. 40, 7129, 2001

    被引用文献3件

  • <no title>

    ISHII M.

    Phys. Rev. B65, 085310, 2002

    被引用文献3件

  • <no title>

    SZE S. M.

    Semiconductor Devices Physics and Technology, 341,356-358, 1985

    被引用文献22件

  • <no title>

    MIZUTA M.

    Appl. Phys.Lett 52, 126, 1988

    被引用文献2件

  • <no title>

    TAKARABE K.

    Phys. Stat. Sol 198, 187, 1996

    被引用文献2件

  • <no title>

    ISHII M.

    Jpn. J. Appl. Phys. 41(6B), 2002

    被引用文献1件

  • <no title>

    OYANAGI H.

    J. Synchrotron Rad. 7, 89, 2000

    被引用文献6件

  • <no title>

    ISHII M.

    Physica B 308(310), 1153, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    TSUJI K.

    Surf. Interface Anal. 27, 132, 1999

    被引用文献2件

  • <no title>

    TANIDA H.

    Nucl. Instrum. & Method 467-468, 1564, 2001

    DOI 被引用文献5件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008563809
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    6184723
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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