次世代LSI配線用低誘電率多孔質シリカ膜の開発 Nanoporous Silica Films for Ultra Low-κ Applications

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著者

収録刊行物

  • セラミックス

    セラミックス 36(12), 933-935, 2001-12-01

    日本セラミックス協会

参考文献:  7件中 1-7件 を表示

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    特開平9-213797

    被引用文献1件

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    RAMOS T.

    Proc. DUMIC, Santa Clara, 211-218, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    特開平10-173050

    被引用文献1件

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    田中千晶

    第61回応用物理学会学術講演会講演予稿集 4a-4-27, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    MURAKAMI H.

    Proc. Advan. Metall. Confer. 2000, San Diego, 173-174, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    BECK J. S.

    J. Am. Chem. Soc. 114, 10834-10843, 1992

    DOI 被引用文献101件

  • ULSIの微細化と多層配線技術への課題

    吉川 公麿

    應用物理 68(11), 1215-1225, 1999-11-10

    参考文献38件 被引用文献9件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008568146
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00131516
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    0009031X
  • NDL 記事登録ID
    5996989
  • NDL 雑誌分類
    ZP9(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--セラミックス・窯業)
  • NDL 請求記号
    Z17-206
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
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