Plasma Etching of TEM Samples for Observing Grain Boundaries in Silicon Nitride

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • Journal of electron microscopy

    Journal of electron microscopy 44(3), 159-164, 1995-06-01

    Published for the Japanese Society of Electron Microscopy by Oxford University Press

参考文献:  14件中 1-14件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008808777
  • NII書誌ID(NCID)
    AA00697060
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    NOT
  • ISSN
    00220744
  • NDL 記事登録ID
    3627859
  • NDL 刊行物分類
    PA43(無機化学・無機化学工業--非金属元素・非金属化合物)
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z53-T76
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
ページトップへ