In Situ Microlithography of Si and GaAs by a Focused Ion Beam in a 200keV TEM

• Kazuo Furuya

• Tetsuya Saito

• Isamu Yamada

書誌事項

タイトル別名

• In Situ Microlithography of Si and GaAs

収録刊行物

• Journal of electron microscopy

  Journal of electron microscopy 45 (4), 291-297, 1996-08

  Oxford : Published for the Japanese Society of Electron Microscopy by Oxford University Press

詳細情報

• CRID: 1520291855852918016
• NII論文ID: 10008810735
• NII書誌ID: AA00697060
• ISSN: 00220744
• NDL書誌ID: 4023197
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4023197
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles