ジクロロシラン Dichlorosilane

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抄録

ジクロロシランは, 近年シリコン半導体関連の加工用ガス材料として使用されている。化学用途としてはなじみは薄いが, 分子内に塩素および水素を持つことから有機金属との反応あるいはヒドロシリル化反応などが知られている興味ある化合物であり, 今後, 用途の広がりが期待されるケイ素材料である。<BR>本稿では半導体材料用としてのジクロロシランの使われ方, および化学用原料としての一端を紹介する。

収録刊行物

  • 有機合成化学協会誌

    有機合成化学協会誌 58(1), 62-64, 2000-01-01

    The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008818847
  • NII書誌ID(NCID)
    AN0024521X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    OTR
  • ISSN
    00379980
  • NDL 記事登録ID
    4957669
  • NDL 雑誌分類
    ZP11(科学技術--化学・化学工業--有機化学・有機化学工業)
  • NDL 請求記号
    Z17-256
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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