シリコン系薄膜製膜技術の現状と展望 Development of thin film deposition technique of amorphous and microcrystalline silicon

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著者

    • 近藤 道雄 KONDO Michio
    • 産業技術総合研究所薄膜シリコン系太陽電池開発研究ラボ National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
    • 藤原 裕之 FUJIWARA Hiroyuki
    • 産業技術総合研究所薄膜シリコン系太陽電池開発研究ラボ National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
    • 松田 彰久 MATSUDA Akihisa
    • 産業技術総合研究所薄膜シリコン系太陽電池開発研究ラボ National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

収録刊行物

  • 應用物理

    應用物理 71(7), 823-832, 2002-07-10

    応用物理学会

参考文献:  37件中 1-37件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008830453
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    6210526
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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