Si 基板上の Al 膜配向性がショットキー特性に及ぼす影響 Relation between Schottky Barrier height and Crystalline Alignment of Al Films on Si Substrates

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収録刊行物

  • まてりあ : 日本金属学会会報

    まてりあ : 日本金属学会会報 40(12), 998, 2001-12-20

    公益社団法人 日本金属学会

参考文献:  3件中 1-3件 を表示

  • <no title>

    MIURA Y.

    Appl. Phys. Lett. 62, 1751, 1993

    被引用文献4件

  • <no title>

    MIURA Y.

    Phys. Rev. B50, 4893, 1994

    被引用文献1件

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    MIURA Y.

    表面化学 15(9), 33, 1994

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008847777
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10433227
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    13402625
  • データ提供元
    CJP書誌  J-STAGE 
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