Co/中間層/(100)Si 構造における直接エピ CoSi_2 形成 Direct Epi-CoSi_2 Formation from Co/intermediate Layer/(100) Si

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著者

    • 小川 真一 OGAWA Shinichi
    • 松下電器産業株式会社半導体社プロセス開発センター Semiconductor Company, Matsushita Electric. md. Co. Ltd.

収録刊行物

  • まてりあ : 日本金属学会会報

    まてりあ : 日本金属学会会報 40(12), 999, 2001-12-20

    公益社団法人 日本金属学会

参考文献:  1件中 1-1件 を表示

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    OGAWA S.

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc 320, 355-360, 1994

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008847781
  • NII書誌ID(NCID)
    AN10433227
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    13402625
  • データ提供元
    CJP書誌  J-STAGE 
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