研究紹介 マイクロ波励起Kr/O2プラズマによるシリコン酸化膜の低温形成

• 大見 忠弘

• 須川 成利

• 平山 昌樹

書誌事項

タイトル別名

• ケンキュウ ショウカイ マイクロハレイキKr O2 プラズマ ニ ヨル シリコン サンカ マク ノ テイオン ケイセイ

収録刊行物

• 応用物理

  応用物理 69 (10), 1200-1204, 2000-10

  東京 : 応用物理学会

キーワード

• silicon oxide film
• microwave-excited plasma
• Kr O2 mixed plasma
• low temperature formation
• interface trap density
• leakage current
• surface orientation

詳細情報

• CRID: 1520009407583938432
• NII論文ID: 10008979188
• NII書誌ID: AN00026679
• ISSN: 03698009
• NDL書誌ID: 5497377
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5497377
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles