マイクロ波励起Kr/O_2プラズマによるシリコン酸化膜の低温形成 Low-temperature formation of silicon oxide films by using microwave-excited Kr/O_2 Plasma.

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著者

    • 須川 成利 SUGAWA Shigetoshi
    • 東北大学大学院工学研究科電子工学専攻 Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University
    • 斉藤 祐司 SAITO Yuji
    • 東北大学大学院工学研究科電子工学専攻 Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University

収録刊行物

  • 應用物理

    應用物理 69(10), 1200-1204, 2000-10-10

    応用物理学会

参考文献:  14件中 1-14件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008979188
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    5497377
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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