(Ba, Sr) TiO_3膜の物理 : 第一原理計算と実験 (Ba, Sr) TiO_3 thin film : First-principles calculation and experiment

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著者

    • 清水 達雄 SCHIMIZU Tatsuo
    • (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー Advanced LSI Technology Laboratories, Corporate R & D Center, Toshiba Corp.
    • 川久保 隆 KAWAKUBO Takashi
    • (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー Advanced LSI Technology Laboratories, Corporate R & D Center, Toshiba Corp.

収録刊行物

  • 應用物理

    應用物理 70(1), 33-37, 2001-01-10

    応用物理学会

参考文献:  16件中 1-16件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008980192
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    5608509
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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