F_2レーザーの現状とリソグラフィー応用への展望 Latest state of F_2 laser and application for microlithography

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  • 應用物理

    應用物理 70(2), 161-164, 2001-02-10

    応用物理学会

参考文献:  19件中 1-19件 を表示

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    ROTHSCHILD M.

    157nm Tech. Data Review Presentations, 15-54, 1999

    被引用文献1件

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    MCCLAY J.

    157nm Lithography Workshop, 329-338S, 1999

    被引用文献1件

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    神成文彦

    レーザー研究 19(11), 2-24, 1991

    被引用文献2件

  • <no title>

    内田裕

    放電研究 137, 61, 1992

    被引用文献2件

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    山田家和勝

    電子技術総合研究彙報 58(11,12)

    被引用文献1件

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    ROWAN C.

    157nm Tech. Data Review Presentations, 15-54, 1999

    被引用文献1件

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    NAGAI S.

    Jpn. J. Appl. Phys. 38, 7013, 1999

    被引用文献3件

  • 「高効率半導体製造装置開発」成果報告書

    1998年度NEDO委託研究, 2000

    被引用文献1件

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    NAKAO K.

    The first Int. Symp. 157nm Lithography, 2000

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    吉田文香

    第46回応用物理学会学術講演会 4-X-2/II, 2000

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    FUJIMOTO J.

    Proc. SPIE 1560, 2000

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    熊崎貴仁

    第46回応用物理学会学術講演会 4-X-3/II, 2000

    被引用文献1件

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    渡辺英典

    第46回応用物理学会学術講演会 4-X-4/II, 2000

    被引用文献1件

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    田中宏和

    第46回応用物理学会関係連合講演会 28-YB-3, 1999

    被引用文献1件

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    富樫格

    第46回応用物理学会学術講演会 3-M-1/II I, 2000

    被引用文献1件

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    笹子勝

    応用物理 68, 520, 1999

    被引用文献3件

  • 光リソグラフィー技術調査研究報告書

    1999年度NEDO委託調査研究, 2000

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    MIZUGUCHI M.

    Optics Letters 24(13), 863, 1999

    DOI 被引用文献1件

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    CRAIGHEAD H. G.

    J. Vac. Sci. & Technol. B1(4), 1186, 1983

    DOI 被引用文献2件

被引用文献:  3件中 1-3件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008980484
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    5659969
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
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