F2レーザーの現状とリソグラフィー応用への展望

• 溝口 計

Bibliographic Information

Other Title

• F2 レーザー ノ ゲンジョウ ト リソグラフィー オウヨウ エ ノ テンボウ

Journal

• 応用物理

  応用物理 70 (2), 161-164, 2001-02

  東京 : 応用物理学会

Keywords

• F2 laser
• optical lithography
• narrow-band oscillation
• semiconductor manufacturing instrument
• vacuum ultra violet

Details

• CRID: 1520572357261237504
• NII Article ID: 10008980484
• NII Book ID: AN00026679
• ISSN: 03698009
• NDL BIB ID: 5659969
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5659969
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles