半導体プラズマエッチング技術の研究展開 : ASET 成果報告と技術展望 Approach to systematic research methodology for plasma etchilng and their future prospects : Activity of ASET Plasma Labs. and technology prospects

この論文をさがす

著者

    • 関根 誠 SEKINE Makoto
    • 技術研究組合超先端電子技術開発機構プラズマ技術研究室 Plasma Technology Laboratory, Association of Super-advanced Electronics Technologies (ASET)

収録刊行物

  • 應用物理

    應用物理 70(4), 387-397, 2001-04-10

    応用物理学会

参考文献:  75件中 1-75件 を表示

  • <no title>

    菅井秀郎

    プラズマエレクトロニクス, 2000

    被引用文献7件

  • <no title>

    CHAPMAN B.

    Glow Discharge Processes, 1980

    被引用文献16件

  • <no title>

    橘邦英

    応用物理 70, 337, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    板谷良平

    応用物理 64, 526, 1995

    被引用文献6件

  • <no title>

    徳山巍

    半導体ドライエッチング技術, 1992

    被引用文献7件

  • <no title>

    COBURN J. W.

    J. Appl. Phts. 48, 3532, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    加工 VAN ROOSMALEN A. J.

    Dry Etching for VLSI, 1991

    被引用文献1件

  • <no title>

    HEINECKE R. A. H.

    Solid State Electron. 18, 1146, 1975

    被引用文献7件

  • <no title>

    菅井秀郎

    次世代ULSIプロセス技術 426, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    機械振興 4月号, 6, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    INOUE M.

    J. Vac. Sci. Technol. A 16, 341, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    SEKINE M.

    J. Plasma and Fusion Research 76, 306, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    OEHRLEIN G. S.

    J. Appl. Phys. 62, 662, 1987

    被引用文献9件

  • <no title>

    HARTNEY R. A.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 7, 1, 1989

    被引用文献1件

  • <no title>

    EPHRAPH L. M.

    J. Electrochem. Soc. 129, 2282, 1982

    被引用文献1件

  • <no title>

    COBURN J. W.

    J.Vac.Sci.& Technol. 16, 391, 1979

    被引用文献6件

  • <no title>

    LANGMUIR I.

    Phys. Rev. 28, 727, 1926

    被引用文献4件

  • <no title>

    堤井信力

    プラズマ基礎工学 171, 1986

    被引用文献1件

  • <no title>

    LIEBERMAN M. A.

    Principles of Plasma Discharges and Materials Processing 120, 1995

    被引用文献1件

  • <no title>

    NODA S.

    Proc. 19th Symp. Dry Process 327, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    KOKURA H.

    Jpn. J. Appl. Phys. 38, 5262, 1999

    被引用文献16件

  • <no title>

    MAGANE M.

    Jpn. J. Appl. Phys. 29, L829, 1990

    被引用文献12件

  • <no title>

    MARUYAMA K.

    J. Phys. D 26, 199, 1993

    被引用文献3件

  • <no title>

    BOOTH J. P.

    J. Appl. Phys. 66, 5251, 1989

    被引用文献18件

  • <no title>

    SUGAI H.

    J. Vac. Sci. Technol. A 10, 1193, 1992

    被引用文献14件

  • <no title>

    TOYODA H.

    Jpn. J. Appl. Phys. 36, 3730, 1997

    被引用文献14件

  • <no title>

    COBURN J. W.

    J. Appl. Phys. 51, 3134, 1980

    被引用文献21件

  • <no title>

    KAWAI Y.

    Jpn.J.Appl.Phys. 36, L1261, 1997

    被引用文献3件

  • <no title>

    HIKOSAKA Y.

    Jpn. J. Appl. Phys. 38, 4465, 1999

    被引用文献3件

  • <no title>

    TATSUMI T.

    Jpn.J.Appl.Phys. 37, 2394, 1998

    被引用文献11件

  • <no title>

    MORISHITA S.

    Jpn.J.Appl.Phys. 37, 6899, 1998

    被引用文献5件

  • <no title>

    川嶋

    春季応用物理学関係連合講演会予稿集 740, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    LIEBERMAN M. A.

    Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, 1995

    被引用文献1件

  • <no title>

    TATSUMI T.

    J. Vac. Sci. & Technol. A 17, 1562, 1999

    被引用文献2件

  • <no title>

    HIKOSAKA Y.

    Jpn. J. Appl. Phys. 32, 3040, 1993

    被引用文献9件

  • <no title>

    OEHRLEIN G. S.

    J. Vac. Sci. & Technol. A 12, 323, 1994

    被引用文献3件

  • <no title>

    MATSUI M.

    Proc. 21st Symp. Dry Process 45, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    SHIBANO T.

    Appl. Phys. Lett. 63, 2336, 1993

    被引用文献6件

  • <no title>

    MIYATA K.

    Jpn. J. Appl. Phys. 36, 5334, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    MAYER T. M.

    J. Electrochem. Soc. 129, 585, 1982

    被引用文献1件

  • <no title>

    SAKAI T.

    Proc. 15th Symp. Dry Process 193, 1993

    被引用文献2件

  • <no title>

    GRAY D. C.

    Beam Simulation Studies of Plasma-Surface Interactions in Fluorocarbon Etching of Si and SiO_2, Ph. D. Thesis, 1992

    被引用文献1件

  • <no title>

    TATSUMI T.

    J. Vac. Sci. & Technol. A 18, 1897, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    唐橋

    春季応用物理学関係連合講演会予稿集, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    山岡

    春季応用物理学関係連合講演会予稿集, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    石川

    春季応用物理学関係連合講演会予稿集, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    TANAKA J.

    Abstr. AVS 46th International Symp. 215, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    MATSUI M.

    Jpn. J. Appl. Phys. 38, 2124, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    ZIEGLER J. F.

    The Stopping and Ranges of Ions in Matter 4, 1985

    被引用文献3件

  • <no title>

    ISHIKAWA K.

    Jpn. J. Appl. 39, 6990, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    小林

    春季応用物理学関係連合講演会予稿集, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    ITO Y.

    Proc. 20th Symp. Dry Process 263, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    KURIHARA K.

    Plasma Sources Sci. & Technol. 5, 12, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    KINOSHITA T.

    Dig. Paper of 1996 Symp. VLSI Technology 188, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    IKEGAMI N.

    Jpn. J. Apl. Phys. 36, 2470, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    ZHENG J.

    J. Vac. Sci. Tecnol. A 13, 859, 1995

    被引用文献1件

  • <no title>

    OZAWA N.

    Proc. Plasma Science Symp. 499, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    HIKOSAKA Y.

    Jpn. J. Apl. Phys. 38, 4465, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    JOUBERT O.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 15, 629, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    YOSHIDA Y.

    Proc. 5th Symp. Dry Process 4, 1983

    被引用文献1件

  • <no title>

    HASHIMOTO K.

    Jpn. J. Appl. Phys. 33, 6013, 1994

    被引用文献17件

  • <no title>

    真壁利明

    応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第24回研究会資料, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    木下啓蔵

    春季応用物理学関係連合講演会予稿集, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    SEKINE M.

    Jpn. J. Appl. Phys. 34, 6274, 1995

    被引用文献11件

  • <no title>

    OHIWA T.

    IEEE Trans. Semicond. Manuf. 13, 310, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    川嶋

    秋季応用物理学会学術講演会予稿集 647, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    intergovernmental Panel on Climate Change-The IPCC Scientific Assessment, 1990

    被引用文献1件

  • <no title>

    TACHIBANA K.

    J. Plasma and Fusion Research 76, 435, 2000

    被引用文献1件

  • プラズマプロセスの研究戦略を探る-半導体プロセス 材料プロセスの将来技術と市場

    第1回プラズマ応用技術の将来ビジョン研究会, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    FLAMM D. L.

    J.Vac.Sci.Technol. 17, 1341, 1980

    DOI 被引用文献3件

  • <no title>

    COBURN J. W.

    J. Appl. Phys. 50, 5210, 1979

    DOI 被引用文献8件

  • <no title>

    HAYASHI H.

    J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2557, 1999

    DOI 被引用文献5件

  • <no title>

    HAYASHI H.

    J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2517, 1999

    DOI 被引用文献2件

  • <no title>

    BUTTERBAUGH J. W.

    J.Vac.Sci.Technol. B9, 1461, 1991

    DOI 被引用文献8件

  • <no title>

    NODA S.

    Thin Solid Films 374, 181, 2000

    DOI 被引用文献2件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008980653
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    5730188
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
ページトップへ