電子ビーム露光技術の現状と展望 Present state and prospect of electron beam lithography

この論文をさがす

著者

収録刊行物

  • 應用物理

    應用物理 70(4), 411-417, 2001-04-10

    応用物理学会

参考文献:  50件中 1-50件 を表示

  • <no title>

    滝川忠宏

    ULSIリソグラフィ技術の革新, 1994

    被引用文献1件

  • <no title>

    徳山巍編

    超微細加工技術, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    吉田善一編

    マイクロ加工の物理と応用, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    SUZUKI K.

    Sub-Half-Micron Lithography for ULSIs, 2000

    被引用文献2件

  • <no title>

    岡崎信次

    応用物理 69, 196, 2000

    被引用文献2件

  • <no title>

    岡崎信次

    Int. Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS)

    被引用文献1件

  • <no title>

    OCHIAI Y.

    Microelectron. Eng. 46, 187, 1999

    被引用文献2件

  • <no title>

    GREENICH J. S.

    J. Vac. Sci. & Technol. 10, 1056, 1973

    被引用文献1件

  • <no title>

    ZANDBERGEN P.

    Microeletron. Eng. 23, 299, 1994

    被引用文献1件

  • <no title>

    NARIHIRO M.

    Jpn. J. Appl. Phys. 39, 6843, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    TAKEMURA H.

    Microelectron. Eng. 53, 392, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    PFEIFFER H. C.

    J. Vac. Sci. & Technol. 15, 887, 1978

    被引用文献2件

  • <no title>

    FUJINAMI T.

    J. Vac. Sci. & Technol. 19, 941, 1981

    被引用文献1件

  • <no title>

    YOSHIKAWA R.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 5, 70, 1987

    被引用文献1件

  • <no title>

    PFEIFFER H. C.

    IEEE Trans.Electron Devices 26, 663, 1979

    被引用文献7件

  • <no title>

    NAKAYAMA Y.

    J.Vac.Sci.Technol.B 8, 1836, 1990

    被引用文献5件

  • <no title>

    YASUDA H.

    Jpn. J. Appl. Phys 30, 3098, 1991

    被引用文献10件

  • <no title>

    SAKITANI Y.

    J.Vac.Sci.Technol.B 10, 2759, 1992

    被引用文献3件

  • <no title>

    TAMURA T.

    Jpn.J.Appl.Phys. 33, 6953, 1994

    被引用文献5件

  • <no title>

    YAMASHITA H.

    Jpn.J.Appl.Phys. 34, 6684, 1995

    被引用文献3件

  • <no title>

    YAMASHITA H.

    J.Vac.Sci.Technol.B 13, 2473, 1995

    被引用文献3件

  • <no title>

    YAMASHITA H.

    J.Vac.Sci.Technol.B 14, 3845, 1996

    被引用文献4件

  • <no title>

    YAMASHITA H.

    Jpn.J.Appl.Phys. 35, 6404, 1996

    被引用文献3件

  • <no title>

    SHIBAHARA K.

    1994 Int. Electron Devices Meet. Tech. Dig. 639, 1994

    被引用文献1件

  • <no title>

    NAKAJIMA K.

    Jpn.J.Appl.Phys. 36, 7535, 1997

    被引用文献3件

  • <no title>

    NAKAJIMA K.

    1998 Symp. VLSI Technology, Dig. Tech. Papers 34, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    BERGER S. D.

    Appl. Phys. Lett. 57, 153, 1990

    被引用文献16件

  • <no title>

    PFEIFFER H. C.

    Jpn.J.Appl.Phys. 34, 6658, 1995

    被引用文献11件

  • <no title>

    TOKUNAGA K.

    2000 Symp. VLSI Technology, Dig. Tech. Papers 54, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    MIYASAKA M.

    Proc. SPIE 3997, 344, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    UTSUMI T.

    Jpn. J. Appl. Phys. 38, 7046, 1999

    被引用文献6件

  • <no title>

    LISHKE B.

    Jpn. J. Appl. Phys. 28, 2058, 1989

    被引用文献1件

  • <no title>

    YASUDA H.

    Jpn. J. Appl. Phys. 32, 6012, 1993

    被引用文献6件

  • <no title>

    安田洋

    応用物理 63, 1135, 1994

    被引用文献1件

  • <no title>

    CHANG T. H. P.

    J. Vac. Sci. & Technol. 12, 1271, 1975

    DOI 被引用文献12件

  • <no title>

    YAMAMOTO J.

    J. Vac. Sci. & Technol. B15, 2868, 1997

    DOI 被引用文献4件

  • <no title>

    MAGOSHI S.

    Jpn. J. Appl. Phys. 38, 2169, 1999

    DOI 被引用文献3件

  • <no title>

    OHKI S.

    J. Vac. Scie. Technol. B18, 3084, 2000

    DOI 被引用文献2件

  • <no title>

    OGASAWARA M.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 17, 2936, 1999

    DOI 被引用文献2件

  • Electron-beam direct writing system EX-8D employing character projection exposure method

    HATTORI K.

    Journal of Vacuum Science * Technology B 11(Issue 6), 2346-2351, 1993

    DOI 被引用文献15件

  • <no title>

    YAMASHITA H.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 16, 3227, 1998

    DOI 被引用文献3件

  • <no title>

    WEN V. S. H.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 16, 3221, 1998

    DOI 被引用文献2件

  • <no title>

    YAMASHITA H.

    J. Vac. Sci. & Technol. B15, 2263, 1997

    DOI 被引用文献3件

  • <no title>

    YAMASHITA H.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 18, 3237, 2000

    DOI 被引用文献2件

  • Low energy electron beam proximity projection lithography : Discovery missing link

    UTSUMI T.

    J. Vac. Sci. Technol. B17, 2897, 1999

    DOI 被引用文献6件

  • <no title>

    CHANG T. H. P.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 6, 1855, 1989

    DOI 被引用文献1件

  • <no title>

    MURAY L. P.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 18, 3099, 2000

    DOI 被引用文献4件

  • <no title>

    MANKOS M.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 18, 3057, 2000

    DOI 被引用文献2件

  • <no title>

    MANKOS M.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 18, 3010, 2000

    DOI 被引用文献1件

  • <no title>

    MURAKI M.

    J. Vac. Sci. & Technol. B 18, 3061, 2000

    DOI 被引用文献2件

被引用文献:  1件中 1-1件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10008980812
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00026679
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03698009
  • NDL 記事登録ID
    5730334
  • NDL 雑誌分類
    ZM17(科学技術--科学技術一般--力学・応用力学)
  • NDL 請求記号
    Z15-243
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
ページトップへ