ゾル-ゲル法による有機修飾シリカゲルの調製およびその細孔構造

• 田中 秀和

  島根大学総合理工学部物質科学科

• 横地 雅弘

  島根大学総合理工学部物質科学科

• 樋野 良治

  島根大学総合理工学部物質科学科

書誌事項

タイトル別名

• Preparation of Organically Modified Silica Gels by Sol-Gel Process and Their Pore Structure
• ゾル ゲルホウ ニ ヨル ユウキ シュウショク シリカゲル ノ チョウセイ オヨビ ソノ サイコウ コウゾウ

抄録

ゾル-ゲル法によりテトラエトキシシランSi (OEt) ₄ (TEOS) と2官能性のシリコンアルコキシドRMeSi (OMe) ₂ (DSA : R=CH₃ (Me), CH=CH₂ (Vinyl), C₆H₅ (Ph)) の混合溶液から有機修飾シリカゲルを調製し, 得られた物質の細孔構造を窒素吸着でしらべた。有機修飾シリカゲルはDSAの物質量分率 (X_D=DSA/ (TEOS+DSA)) が0.3以下で生成した。X_Dの増加とともにゲル中に導入されたR基量は増加した。MeおよびVinyl基で修飾したゲルのマイクロ孔容積および細孔径はTEOSから調製したゲルより大きかった。一方, Ph基で修飾したゲルの吸着等温線はX_Dが増加するとI型からII型になり, 比表面積およびマイクロ孔容積が減少した。これらのことから, ゲルの細孔構造はR基を導入すると変化することがわかった。

収録刊行物

• Journal of the Japan Society of Colour Material

  Journal of the Japan Society of Colour Material 75 (9), 421-425, 2002

  Japan Society of Colour Material

キーワード

• Organic modified silica gel
• Sol-gel method
• N<SUB>2</SUB> adsorption
• Micropore

詳細情報

• CRID: 1390282680446644864
• NII論文ID: 10009679624
• NII書誌ID: AN00354634
• DOI: 10.4011/shikizai1937.75.421
• COI: 1:CAS:528:DC%2BD38Xos1Wks7g%3D
• NDL書誌ID: 6305349
• ISSN: 0010180X
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6305349
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可