シリカの表面水酸基の構造評価 : 化学反応法と分子吸着法 Investigation of the Structure of Surface Hydroxyl Groups on Silica : Chemical Reaction and Molecular Adsorption Method

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著者

    • 武井 孝 TAKEI Takashi
    • 東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻 Division of Applid Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo Metoropolitan University
    • 安宅 真和 ATAKU Masakazu
    • 東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻 Division of Applid Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo Metoropolitan University
    • 藤 正督 FUJI Masayoshi
    • 東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻 Division of Applid Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo Metoropolitan University
    • 渡辺 徹 WATANABE Tohru
    • 東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻 Division of Applid Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo Metoropolitan University
    • 近沢 正敏 CHIKAZAWA Masatoshi
    • 東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻 Division of Applid Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo Metoropolitan University

収録刊行物

  • 粉体工学会誌

    粉体工学会誌 36(3), 179-184, 1999-03-10

    粉体工学会

参考文献:  21件中 1-21件 を表示

被引用文献:  2件中 1-2件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10010063342
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00222757
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03866157
  • NDL 記事登録ID
    4681371
  • NDL 雑誌分類
    ZP5(科学技術--化学・化学工業--化学工学)
  • NDL 請求記号
    Z17-38
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL 
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