CVD法による薄膜生成プロセスでの微粒子の発生と観察

• 藤本 敏行

  理化学研究所 レーザー反応工学研究室

収録刊行物

• 粉体工学会誌

  粉体工学会誌 37 (12), 899-900, 2000-12-10

詳細情報

• CRID: 1570291224879185536
• NII論文ID: 10010064809
• NII書誌ID: AN00222757
• ISSN: 03866157
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles