CVD法による薄膜生成プロセスでの微粒子の発生と観察

• FUJIMOTO Toshiyuki

  理化学研究所 レーザー反応工学研究室

Journal

• 粉体工学会誌

  粉体工学会誌 37 (12), 899-900, 2000-12-10

Details

• CRID: 1570291224879185536
• NII Article ID: 10010064809
• NII Book ID: AN00222757
• ISSN: 03866157
• Text Lang: ja
• Data Source:
  • CiNii Articles