分子動力学シミュレーションによる単結晶シリコン理想表面生成プロセスの予測

• 田中 宏明

• 島田 尚一

• 井川 直哉

Bibliographic Information

Other Title

• ブンシ ドウリキガク シミュレーション ニ ヨル タンケッショウ シリコン リソウ ヒョウメン セイセイ プロセス ノ ヨソク

Journal

• Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology

  Abrasive technology : 砥粒加工学会誌 : journal of the Japan Society for Abrasive Technology 45 (4), 175-180, 2001-04

  東京 : 砥粒加工学会

Keywords

• Monocrystalline Silicon
• Surface Generation Mechanism
• Molecular Dynamics
• Surface Roughness
• Deformed Layer
• Amorphous Phase Transformation
• Mechano-Chemical Polishing
• Ductile-Mode Grinding

Details

• CRID: 1520853832944932608
• NII Article ID: 10010081005
• NII Book ID: AN10192823
• ISSN: 09142703
• NDL BIB ID: 5730864
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5730864
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZN11(科学技術--機械工学・工業)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles