イオン付着質量分析(IAMS)法による半導体製造プロセス排出フッ素化合物ガスのin-situ分析 In-Situ Analysis of Perfluoro Compounds in Semiconductor Process Exhaust by Ion Attachment Mass Spectrometry(IAMS)

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抄録

A compact apparatus for ion-attachment mass spectrometry (IAMS) has been developed, which is used for in-situ analyses of exhaust gases including perfluoro compounds (PFCs) from a dry-etching machine generating <I>cyclo</I>-C<SUB>4</SUB>F <SUB>8</SUB>/O <SUB>2</SUB>/ Ar plasma. The soft attachment of Li+ to target molecules plays an important role in the ionization technique in LAMS; fragment-free molecular ions are observed even for reactive or unstable molecules such as PFCs in the exhaust gases. IAMS is, therefore, capable of accurate and in-situ analysis of multi-component gases including unknown species. In the present measurements, a lot of new species which are not considered even in the current protocol for the measurement of PFCs were observed in the exhaust gases. IAMS is found to be useful for accurate analyses of the exhaust gases from plasmas as well as diagnoses of plasmas themselves.

収録刊行物

  • 真空

    真空 45(12), 846-853, 2002-12-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  37件中 1-37件 を表示

  • <no title>

    LANGAN J.

    Solid State Technology 115, 1996

    被引用文献1件

  • <no title>

    MEYERS J.

    Equipment Environmental Characterization Guidelines, Rev.3.0, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    RIDGEWAY R. G.

    MICRO 45, 1977

    被引用文献1件

  • <no title>

    ZAZZERA L.

    J. Electrochem. Soc. 144, 3597, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    LAUSH C. T.

    Meeting at SEMICON West 99, D-1, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    KESARI S.

    Meeting at SEMICON West 99, E-1, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    技術研究組合超先端電子技術開発機構

    地球温暖化ガスの代替ガスシステムの研究 246, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    辻健

    PFGガス排出量測定方法に関する調査研究 60, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    相澤朋之

    第26回真空に関する連合講演会プロシーディングス 62, 1985

    被引用文献1件

  • <no title>

    GOOD A.

    Chem. Rev. 75, 561, 1975

    被引用文献1件

  • <no title>

    ROLLGEN F. W.

    Organic Mass Spectrom. 10, 660, 1975

    被引用文献1件

  • <no title>

    STALEY R. H.

    J. Am. Chem. Soc. 97, 5920, 1975

    被引用文献2件

  • <no title>

    HODGES R. V.

    Anal. Chem. 48, 825, 1976

    被引用文献2件

  • <no title>

    FUJII T.

    Anal. Chem. 61, 1026, 1989

    被引用文献2件

  • <no title>

    FUJII T.

    Anal. Chem. 62, 107, 1990

    被引用文献2件

  • <no title>

    FUJII T.

    Anal. Chem 64, 775, 1992

    被引用文献3件

  • <no title>

    FUJII T.

    Chem. Phys. Lett. 191, 162, 1992

    被引用文献4件

  • <no title>

    FUJII T.

    Phys. Rev. A,46, 3555, 1992

    被引用文献1件

  • <no title>

    FUJII T.

    J. Appl. Phys. 74, 3009, 1993

    被引用文献3件

  • <no title>

    FUJII T.

    J. Phys. Chem. 97, 11380, 1993

    被引用文献4件

  • <no title>

    FUJII T.

    Phys. Rev. E,49, 657, 1994

    被引用文献1件

  • <no title>

    MATSUSHITA F.

    Rapid Commun. Mass Spectrom. 13, 2428, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    FUJII T.

    Mass Spectrom. Rev. 19, 111, 2000

    被引用文献3件

  • <no title>

    BLEWETT J. P.

    Phys. Rev. 50, 464, 1936

    被引用文献2件

  • <no title>

    HOGAN M. J.

    Int. J. Mass Spectrum. Ion Proc. 116, 249, 1992

    被引用文献1件

  • <no title>

    FUJII T.

    Appl. Phys. 28, 1268, 1995

    被引用文献1件

  • <no title>

    KELLER J. H.

    J.Vac.Sci.Technol. A11, 2487, 1993

    被引用文献4件

  • <no title>

    LIEBERMAN M. A.

    Principle of Plasma Discharges and Materials Processing 327, 1994

    被引用文献1件

  • プロセスプラズマの基礎とその実際

    佐藤康実

    第10回プラズマエレクトロニクス講習会 88, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    中村恵

    第41回真空に関する連合講演会プロシーディングス 204, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    岩瀬啓一郎

    真空 44, 39, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    FUJII T.

    Anal. Chem. 73, 2937, 2001

    被引用文献2件

  • <no title>

    中村恵

    第41回真空に関する連合講演会プロシーディングス 205, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    NAKAMURA M.

    J. Vac. Sci. Technol. A,19, 1105, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    FUJII T.

    J. Appl. Phys. 90, 2180, 2001

    被引用文献1件

  • <no title>

    SPEARS K. G.

    J. Chem. Phys. 59, 4174, 1973

    DOI 被引用文献1件

  • <no title>

    BOMBICK D. B.

    Anal. Chem. 56, 396, 1984

    DOI 被引用文献3件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10010088845
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    6412480
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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