Photocleavage Processes in an Iminosulfonate Derivative Usable as Photoacid in Resist Technology

この論文をさがす

著者

    • LALEVEE Jacques
    • Department de Photochimie Generale, UMR n°7525, Ecole Nationale Superieure de Chimie
    • ALLONAS Xavier
    • Department de Photochimie Generale, UMR n°7525, Ecole Nationale Superieure de Chimie

収録刊行物

  • Chemistry letters

    Chemistry letters 32(2), 178-179, 2003-02-05

参考文献:  12件中 1-12件 を表示

  • <no title>

    SHIRAI M.

    Trends Photochem. Photobiol. 5, 169, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    SHIRAI M.

    Bull.Chem.Soc.Jpn. 71, 2483, 1998

    被引用文献4件

  • <no title>

    SHIRAI M.

    J. Mater. Chem. 3, 133, 1993

    被引用文献2件

  • <no title>

    ALLONAS X.

    Chem. Lett. 1090, 2000

    被引用文献1件

  • <no title>

    LALEVEE J.

    Phys, Chem. Chem. Phys. 3, 2721, 2001

    被引用文献2件

  • <no title>

    ORTICA F.

    Chem. Mater. 12, 414, 2000

    DOI 被引用文献6件

  • <no title>

    ANDRAOS J.

    Chem. Mater. 10, 1694, 1998

    被引用文献1件

  • <no title>

    SHIRAI M.

    Eur. Polym. J. 33, 1255, 1997

    被引用文献1件

  • <no title>

    LALEVEE J.

    J. Photochem. Photobiol., A 151, 27, 2002

    被引用文献3件

  • <no title>

    HWANG H.

    J. Photochem. Photobiol., A 126, 37, 1999

    被引用文献1件

  • <no title>

    KORTH H. G.

    J. Phys. Chem. 94, 8835, 1990

    被引用文献2件

  • <no title>

    LALEVEE J.

    J. Phys. Chem. A 106, 6702, 2002

    被引用文献1件

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10012814101
  • NII書誌ID(NCID)
    AA00603318
  • 本文言語コード
    ENG
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    03667022
  • データ提供元
    CJP書誌 
ページトップへ