XPS分析における有機材料の試料損傷 Sample Surface Degradation of Organic Materials Caused during XPS Analysis

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抄録

X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is known to be one of the relatively low destructive surface analysis techniques. Surface changes of the samples during the XPS measurements are often observed. This change called surface degradation has at present no standard to determine its extent. In this report, we have carried out several "round-robin" tests to investigate this phenomena, and the relative X-ray dose parameter that represents the intensity of the Ag<Sub>3d5/2</Sub> peak multiplied with the measurement time was found to be important in the XPS spectra analysis. This article describes the methods for the evaluation of the surface degradation of the samples during the XPS measurements.

収録刊行物

  • 表面科学 = Journal of The Surface Science Society of Japan

    表面科学 = Journal of The Surface Science Society of Japan 25(4), 192-197, 2004-04-10

    The Surface Science Society of Japan

参考文献:  23件中 1-23件 を表示

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10012860602
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00334149
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    03885321
  • NDL 記事登録ID
    6919652
  • NDL 雑誌分類
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL 請求記号
    Z15-379
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
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