円環配置型スパッタイオンポンプの開発 Development of the Annular Sputter Ion Pump and its Pumping Characteristics

この論文にアクセスする

この論文をさがす

著者

抄録

A sputter ion pump with the pumping cells assembled in an annular configuration is developed. The pump is characterized by following factors; 1) minimized residual magnetic field intensity at the center of annular configuration about 80 A/m, 2) high effective pumping speed larger than 0.03 m<SUP>3</SUP>/s and 3) low ultimate pressure about 4 × 10<SUP>-9</SUP> Pa. The design is suited for pumping the electron beam equipment such as scanning electron microscope, etc.

収録刊行物

  • 真空 = JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN

    真空 = JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN 47(3), 255-257, 2004-03-20

    The Vacuum Society of Japan

参考文献:  4件中 1-4件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10012867272
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00119871
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    SHO
  • ISSN
    05598516
  • NDL 記事登録ID
    6930161
  • NDL 雑誌分類
    ZN15(科学技術--機械工学・工業--流体機械)
  • NDL 請求記号
    Z16-474
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL  J-STAGE 
ページトップへ