レーザー生成プラズマを用いた次世代リソグラフィEUV光源 Laser Produced Plasma for EUV Light Source For Lithography

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抄録

We describe properties of laser produced plasmas (LPP) for extreme ultra violet (EUV) light source for next generation lithography as an industrial application of LPP. We briefly present three topics related to the LPPEUV light source; laser intensity dependence of conversion efficiency from laser light to EUV light with 13.5nm wavelength with 2% bound width with tin target, present understanding of EUV emission from xenon target, and atomic processes in those targets.

収録刊行物

  • レーザー研究

    レーザー研究 32(5), 330-336, 2004-05-15

    The Laser Society of Japan

参考文献:  29件中 1-29件 を表示

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被引用文献:  1件中 1-1件 を表示

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10012932295
  • NII書誌ID(NCID)
    AN00255326
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    REV
  • ISSN
    03870200
  • NDL 記事登録ID
    6953165
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1040
  • データ提供元
    CJP書誌  CJP引用  NDL  J-STAGE 
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