レーザー生成プラズマを用いた次世代リソグラフィＥＵＶ光源

• 西原 功修

  大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター

• 西村 博明

  大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター

• 望月 孝晏

  兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所

• 佐々木 明

  日本原子力研究所 関西研究所 光量子科学研究センター

書誌事項

タイトル別名

• Laser Produced Plasma for EUV Light Source For Lithography
• レーザー セイセイ プラズマ オ モチイタ ジ セダイ リソグラフィ EUV コウゲン

抄録

We describe properties of laser produced plasmas (LPP) for extreme ultra violet (EUV) light source for next generation lithography as an industrial application of LPP. We briefly present three topics related to the LPPEUV light source; laser intensity dependence of conversion efficiency from laser light to EUV light with 13.5nm wavelength with 2% bound width with tin target, present understanding of EUV emission from xenon target, and atomic processes in those targets.

収録刊行物

• レーザー研究

  レーザー研究 32 (5), 330-336, 2004

  一般社団法人 レーザー学会

キーワード

• EUV light
• Laser produced plasma
• Light source for tin and xenon plasma

詳細情報

• CRID: 1390282679622205568
• NII論文ID: 10012932295
• NII書誌ID: AN00255326
• DOI: 10.2184/lsj.32.330
• COI: 1:CAS:528:DC%2BD2cXlsFGjs78%3D
• ISSN: 13496603
• ISSN: 03870200
• NDL書誌ID: 6953165
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6953165
• Web Site: http://www.jstage.jst.go.jp/article/lsj/32/5/32_5_330/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可