次世代超電導線材の開発と特性評価　　ＩＢＡＤ‐ＰＬＤ法長尺ＹＢＣＯ線材の開発―ＩＢＡＤ中間層上における自己配向ＰＬＤ‐ＣｅＯ２キャップ層の長尺化―

• 室賀 岳海

  （財）国際超電導産業技術研究センター 超電導工学研究所

• 宮田 成紀

  （財）国際超電導産業技術研究センター 超電導工学研究所

• 渡部 智則

  （財）国際超電導産業技術研究センター 超電導工学研究所

• 衣斐 顕

  （財）国際超電導産業技術研究センター 超電導工学研究所

• 山田 穣

  （財）国際超電導産業技術研究センター 超電導工学研究所

• 和泉 輝郎

  （財）国際超電導産業技術研究センター 超電導工学研究所

• 塩原 融

  （財）国際超電導産業技術研究センター 超電導工学研究所

• 加藤 丈晴

  （財）ファインセラミックスセンター

• 平山 司

  （財）ファインセラミックスセンター

書誌事項

タイトル別名

• Development of Long YBCO-coated Conductors Using IBAD-PLD Method-Long Fabrication of Self-epitaxial PLD-CeO2 Cap Layers on IBAD Tape-
• IBAD-PLD法長尺YBCO線材の開発--IBAD中間層上における自己配向PLD-CeO2キャップ層の長尺化
• IBAD PLDホウ チョウシャク YBCO センザイ ノ カイハツ IBAD チュウカンソウ ジョウ ニ オケル ジコハイコウ PLD CeO2 キャップソウ ノ チョウシャクカ

抄録

We found that a PLD-CeO₂ cap layer on an IBAD-Gd₂Zr₂O₇ (GZO) tape can make a high grain alignment without ion-beam assistance such as the IBAD process. We call this phenomenon “self-epitaxy in a PLD-CeO₂ cap layer”. At present, we are developing long tapes by the Reel-to-Reel process for the self-epitaxial PLD-CeO₂ cap layer on an IBAD-GZO tape. A 108 m-long tape with a PLD-CeO₂ cap layer was obtained. The delta phi values of the buffer layer were improved to 4.3-4.8 degrees of PLD-CeO₂ from 13.3-14.0 degrees of IBAD-GZO. Although the fabrication rate of the PLD-CeO₂ cap layer was as fast as 5-6 m/h, that of the IBAD-GZO was 1 m/h. Then, we tried to improve the overall fabrication rate of the total buffer layers using a thin IBAD layer and the self-epitaxial PLD-CeO₂ cap layer. A PLD-CeO₂ cap layer was deposited at a tape transfer speed of 2.5 m/h on a 55 m-long IBAD-GZO tape with the delta phi values of 23.1-24.0 degrees fabricated at 2 m/h, which was two times faster than the conventional IBAD process. As a result, the delta phi values of the PLD-CeO₂ cap layer were in the range of 8.6-10.4 degrees. The fabrication rate throughout all of the processes for buffer layers was achieved to be 2 m/h. It was found that PLD-CeO₂ was effective for enhancing both the fabrication rate and grain alignment.

収録刊行物

• 低温工学

  低温工学 39 (11), 529-535, 2004

  公益社団法人 低温工学・超電導学会 (旧 社団法人 低温工学協会)

キーワード

• PLD-CeO₂ cap layer
• self-epitaxy
• high grain alignment
• reel-to-reel process
• long fabrication

詳細情報

• CRID: 1390001204615357056
• NII論文ID: 10013555359
• NII書誌ID: AN00333419
• DOI: 10.2221/jcsj.39.529
• COI: 1:CAS:528:DC%2BD2MXitFyqsw%3D%3D
• ISSN: 18800408
• ISSN: 03892441
• NDL書誌ID: 7167041
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7167041
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可