Fabrication of Optically Active Er〔3+〕-Doped Bi2O3-SiO2 Glass Thin Films by Pulsed Laser Deposition

• Shusaku Akiba

• Masahiro Takakura

• Akifumi Matsuda

書誌事項

タイトル別名

• Fabrication of Optically Active Er 3 Doped Bi2O3 SiO2 Glass Thin Films by Pulsed Laser Deposition

抄録

コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌

収録刊行物

• Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP

  Japanese journal of applied physics. Part. 1, Regular papers, brief communications & review papers : JJAP 45 (7), 5933-5935, 2006-07

  Tokyo : Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physics

キーワード

• pulsed laser deposition
• erbium
• bismuth oxide
• glass thin film
• luminescence
• upconversion fluorescence

詳細情報

• CRID: 1520290883098401024
• NII論文ID: 10018000333
• NII書誌ID: AA10457675
• ISSN: 00214922
• NDL書誌ID: 7979268
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7979268
• 本文言語コード: en
• NDL 雑誌分類:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles