スピントンネル素子のAl薄膜における熱酸化の研究 Study of thermal oxidation on Al thin film of spin tunneling junctions

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著者

    • 椎木 一夫 SHIIKI Kazuo
    • 慶應義塾大学 理工学部 物理情報工学科 Department of Applied Physics and Physicoinformatics, Keio University

収録刊行物

  • 映像情報メディア学会技術報告  

    映像情報メディア学会技術報告 30(35), 41-46, 2006-07-06 

    映像情報メディア学会

参考文献:  8件

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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    10018045387
  • NII書誌ID(NCID)
    AN1059086X
  • 本文言語コード
    JPN
  • 資料種別
    ART
  • ISSN
    13426893
  • NDL 記事登録ID
    8093484
  • NDL 雑誌分類
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号
    Z16-1010
  • データ提供元
    CJP書誌  NDL 
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